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光刻膠研發(fā)突破有望帶來BDO-NMP新需求
點擊次 更新:2023-11-20 10:34:50 來源/作者:
近日,彤程新材發(fā)布公告,稱公司已經(jīng)完成ArF光刻膠部分型號的開發(fā),獲得了重大技術(shù)突破,首批 ArF光刻膠的各項出貨指標(biāo)已經(jīng)能對標(biāo)國際光刻膠大廠產(chǎn)品。本次公告中最亮眼的是,子公司彤程電子在上?;瘜W(xué)工業(yè)區(qū)的光刻膠工程已竣工,目前已逐步進入試生產(chǎn)階段,且出貨指標(biāo)也不僅僅是實驗室指標(biāo),而是工業(yè)量產(chǎn)化的指標(biāo)。

這意味著,我國的國產(chǎn)高端光刻膠已具備量產(chǎn)能力,而配套的相關(guān)產(chǎn)品的用量也將隨著國產(chǎn)光刻膠的需求井噴而一同上升,尤其是用于光刻膠脫除液的BDO-NMP產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品的用量。

目前全球光刻膠市場主要被日本企業(yè)壟斷,日本TOP 5龍頭企業(yè)占據(jù)全球七成以上的市場份額,美國杜邦占據(jù)了剩下三成中的15%。目前我國光刻膠的國產(chǎn)化率不足一成,尤其在高端的ArF、KrF光刻膠方面,國產(chǎn)企業(yè)相對疲軟。但是彤程的這一突破有望迅速推動國內(nèi)光刻膠市場的國產(chǎn)化,彤程在投資者交流會上表示,盡管2023年內(nèi)難以直接出貨,但未來1年半左右時間內(nèi),公司產(chǎn)品就有望對進口的ArF光刻膠進行替代。

NMP作為性能穩(wěn)定的有機溶劑,在半導(dǎo)體制造中同樣起著重要作用,它作為稀釋劑、光刻膠脫除液和半導(dǎo)體面板清洗劑,在半導(dǎo)體制造的多個環(huán)節(jié)中都起著不可忽視的重要作用。光刻膠的國產(chǎn)化進程在加速的邊緣,NMP的用量也有望“水漲船高”,或?qū)⑼苿覤DO新的需求增長點。

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